我們的優(yōu)勢(shì)｜磁控濺射

NANO-MASTER設(shè)計(jì)制造的磁控濺射系統(tǒng)在行業(yè)內(nèi)有*的競(jìng)爭(zhēng)力，設(shè)備擁有以下突出的優(yōu)勢(shì)：

1. 計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的自動(dòng)上下片，上面和對(duì)準(zhǔn)的過(guò)程全部通過(guò)計(jì)算機(jī)控制，無(wú)需人工操作，并且不會(huì)損傷系統(tǒng)；

2. 全自動(dòng)膜厚監(jiān)控，客戶可以在軟件設(shè)定目標(biāo)膜厚，整個(gè)工藝階段可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守，無(wú)需人工介入，薄膜膜厚具有高度的重復(fù)性；

3. 出色的膜厚均勻度，對(duì)于6"片范圍內(nèi)，濺射金屬膜時(shí)，可以達(dá)到優(yōu)于+/-1%的均勻度；

4. 系統(tǒng)可以支持濺射前的等離子預(yù)清洗功能，提供優(yōu)異的膜基層性能；

5. 系統(tǒng)支持預(yù)濺射，可以去除靶材的污染物后再打開(kāi)遮板，實(shí)現(xiàn)高純膜濺射；

6. 全自動(dòng)的工藝控制，提供20"的觸摸屏監(jiān)控屏幕，可以保存不限數(shù)量的程序，每個(gè)程序支持1-100個(gè)工藝步驟；

7.分子泵與腔體采用直連設(shè)計(jì)，可以提供優(yōu)異的真空傳導(dǎo)率。8小時(shí)即可達(dá)到5x10^-7Torr的極限真空，15分鐘達(dá)到10^-6Torr量級(jí)的工藝真空；

8. 腔體下游壓力控制，通過(guò)計(jì)算自動(dòng)控制分子泵的渦輪速度，實(shí)現(xiàn)腔體下游壓力的全自動(dòng)調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定；

9. 緊湊型設(shè)計(jì)，包含自動(dòng)上下片單元的主機(jī)總占地面積僅26"*42"，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室寶貴的空間。