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    NIE-3000IBE離子束刻蝕

    NIE-3000IBE離子束刻蝕:是一款手動放片/取片,但工藝過程為全自動計算機控制的臺式離子束刻蝕系統,可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

    • 產品型號:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2023-11-13
    • 訪  問  量:5679
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    產品詳情

    IBE離子束刻蝕

    NIE-3000IBE離子束刻蝕產品概述:該系統為手動放片取片,但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統,系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為。

    NIE-3000IBE離子束刻蝕產品特點:

    • 低成本
    • 離子束:高達2KV/10mA
    • 離子電流密度100-360uA/cm2
    • 離子束直徑:4",5",6"
    • 兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
    • 極限真空5x10-7Torr
    • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
    • 14"不銹鋼或鋁質腔體
    • 水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
    • 自動上下載片(NIE-3500)
    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
    • 占地面積30"x30"

    產品應用:

    • 表面處理
    • 離子銑
    • 表面清洗
    • 帶活性氣體的離子束刻蝕:  光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

     

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